製品
VCR 1/2インチインターフェースを備えた5ミクロンのステンレス鋼粉末フィルターカートリッジ
サイズ:φ40×196.3mm
フィルター精度:5ミクロン
インターフェース: VCR1/2"
VCR 1/2 インチ インターフェースを備えたステンレス鋼粉末フィルター カートリッジは、半導体製造における重要なコンポーネントであり、高純度ガス供給システム用に特別に設計されています。-これらのフィルター カートリッジは、高度な金属粉末焼結技術を利用して正確な濾過を実現し、5 ミクロンもの粒子を効果的に捕捉します。これにより、繊細な半導体製造プロセスの完全性を維持するために不可欠な超クリーンなプロセス ガスの供給が保証されます。VCR 1/2 インチ インターフェースは、 -漏れ防止金属-と-金属シールは、微小なガス不純物でさえマイクロ電子デバイスの重大な欠陥につながる可能性がある半導体環境の厳しい要件を満たします。耐食性ステンレス鋼で作られた堅牢な構造により、極端な条件下でも耐久性と長期信頼性が保証されます。-
半導体用途では、これらのフィルター カートリッジは、マスフロー コントローラーや精密バルブなどの下流機器を粒子汚染から保護する上で重要な役割を果たします。既存の高純度ガス ラインにシームレスに統合することで、システムのダウンタイムを最小限に抑えながら設置とメンテナンスを簡素化します。-高い濾過効率、卓越した耐薬品性、信頼性の高いシーリングの組み合わせにより、高度な半導体製造施設で一貫したガス純度と稼働効率を確保するために不可欠なものとなっています。
製品仕様

材質:316Lパウダー
サイズ:φ40×196.3mm
フィルター精度:5ミクロン
インターフェース: VCR1/2"
技術: 焼結
製品の特長

1. 超高純度および粒子保持率
- 焼結ステンレス鋼構造 (通常は 316L) により、バインダー、接着剤、有機残留物のない、クリーンな全金属濾過媒体が得られます。
- 0.5 μm までのサブミクロンの粒子を保持することができ、プロセス チャンバーやウェーハに微小汚染が到達するのを防ぎます。
- 粒子の脱落がなく、長期使用でも安定した粒子数を保証します。
2. 堅牢な機械的安定性と熱的安定性
- フルメタル設計は、高圧、高温、頻繁な熱サイクルに耐えます。
- ガス供給システムで一般的な振動、逆流、または圧力脈動条件下でも機械的完全性を維持します。-
- 高温ガスラインのヒートトレースと互換性があります。

3. 再洗浄可能および再生可能
- フィルター エレメントはバックフラッシュ、超音波洗浄、真空ベークが可能で、ポリマー フィルターやセラミック フィルターと比べて長い耐用年数を実現します。
- 一般的なライフサイクルは使い捨て PTFE または PVDF フィルターの 5 ~ 10 倍に延長され、ダウンタイムと総所有コストが最小限に抑えられます。
4. 化学的適合性と耐食性
- 316L ステンレス鋼は、塩化物、フッ素、アンモニア、酸性ガスの環境下でも不動態酸化膜を維持します。
- 非反応性表面により、金属イオンの抽出やガス組成の変化が防止されます。
アプリケーション
1. UHP ガス供給ライン
- バルクガス供給スキッド、ガスキャビネット、VMB/VMP パネルに設置され、ガスが MFC やプロセスツールに入る前に粒子を濾過します。
- N₂、Ar、H₂、He、O₂、NH₃、CF₄、および重要なプロセスに供給するその他の高純度ガス ラインで使用されます。
2. マスフローコントローラー (MFC) 入口保護
- 高精度マスフローコントローラーの粒子汚染とバルブの摩耗を防ぎます。
- MFC の長期的な流れの安定性と校正の一貫性が向上します。
3. プロセスチャンバーとツールガス入口
- CVD、ALD、エッチング、拡散炉への粒子や水分のない搬送を保証します。
- 膜の品質と歩留まりにとって純度が重要な SiH₄、WF₆、BCl₃、PH₃、TEOS ラインで使用されます。
4. 特殊ガスおよび前駆体システム
- 化学的不活性性と温度安定性が重要な金属有機ガスまたはハロゲンベースのガス用。
- 多くの場合、凝縮した粒子や液滴を捕捉するために、気化器やバブラーの後に配置されます。
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