TOPTITECH の 3/4 インチおねじ焼結 SS316L パウダーフィルターカートリッジは、半導体ウェーハ平坦化プロセスにおける CMP スラリー循環濾過用に特別に設計されています。冷間静水圧プレスと高温真空焼結-により、ガス噴霧化された 316L ステンレス鋼粉末が、細孔サイズ分布が制御された硬質モノリシック多孔質構造に変換されます。3/4 インチおねじ接続により、直接接続が可能になります。再循環ループや研磨パッドマニホールドの使用時点アセンブリなど、既存の CMP スラリー供給システムにドロップイン交換します。--深層ろ過機構は、スラリー研磨材の完全性を維持しながら、相互接続された細孔ネットワーク内に大きな粒子の汚染物質-、シリカ凝集体、セリア破片、および過大な研磨材-を捕捉します。 0.2 µm ～ 65 µm のろ過定格は、シリカ- ベースの酸化物スラリーとセリア- ベースの STI スラリーの両方に対応します。

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CMP スラリー分解化合物-たとえば、研磨骨材、界面活性剤の分解によるゲル粒子、配管腐食による金属残留物、再循環保管による細菌副産物など-は、カートリッジ表面のフィルターケーキに沈着します。全金属構造により、ポリマーまたはファイバー-ベースのカートリッジにありがちなメディア移行リスクが排除され、微小傷、ヘイズ、異物汚染によるパターン損傷などの下流のウェハ欠陥が防止されます。. 3/4 インチ雄ネジ焼結 SS316L パウダーフィルターカートリッジは、繰り返しのアルカリ洗浄サイクル (pH 10 ～ 12) と超音波再生に耐え、構造を劣化させません。このカートリッジは複数の生産キャンペーンで再利用可能で、優れた効果を発揮します。使い捨てポリマー代替品の交換サイクルが 2 ～ 4 週間であるのと比較して、耐用年数が 5 ～ 10 年であるため、半導体製造工場の消耗品コストとダウンタイムが大幅に削減されます。

製品仕様

材質：SS316Lパウダー
サイズ：φ40×400mm
孔径: 0.5um
コネクタ: 3/4: おねじ
気孔率: 30%-40%
技術: シンタリンg

製品の特長

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I. バイパスリスクのない微粒子の保持-

ガス-で噴霧された 316L 球状粉末は、モノリシック深層濾過マトリックスに圧縮および焼結され、0.2 μm ～ 60 μm までの絶対定格除去を実現します。焼結構造により、巻回または積層設計に見られる内部バイパスチャネルや媒体の移動が排除されます。深層ろ過は、表面だけでなく多孔質ネットワーク全体にわたって研磨性凝集体{6}}シリカ、セリア、アルミナ凝集体-を捕捉します。脱落しない特性により、上流のスラリー再循環ループとパッド分配アセンブリの汚染を防ぎます。冷間静水圧プレスと水素雰囲気焼結による正確な細孔サイズ分布により、複数の製造ロットにわたって一貫した濾過効率が保証されます。

II.高い汚れ保持能力と延長された耐用年数

3/4 インチの雄ネジカートリッジは、大きな汚れ保持能力を備え、界面活性剤の分解によるスラリー劣化化合物のゲル粒子-、配管腐食による金属残留物、再循環保管による細菌副産物-を初期圧力降下を抑えて捕捉します。高い多孔率（30 ～ 40%）と均一な細孔構造により、CMP スラリーの連続循環下でも高い透過性と低い濾過抵抗が維持されます。耐用年数の延長により、高スループットのウェーハ製造にとって重要なフィルターの交換頻度が減少します。

Ⅲ．優れた化学的安定性と熱的安定性

SS316L 焼結構造は、シリカおよびセリアベースのスラリー配合物に見られる極端な pH 環境 (pH 10 ～ 12) に耐えます。モリブデン含有量により、304L グレードと比較して耐孔食性と塩化物応力腐食割れから保護されます。フルメタルのモノリシック構造は、高圧、交互負荷サイクル、再循環ポンプ動作中の温度変動による損傷に耐えます。

IV.洗浄可能、再生可能、総所有コストが低い

全金属構造は、バックフラッシュ、超音波バス、または高温酸化バーンオフなどの複数の洗浄方法をサポートします。アルカリ洗浄サイクル (pH 10 ～ 12) と超音波再生により、構造を劣化させることなく元の透過性を回復します。このカートリッジは、使い捨てポリマー (PTFE/PVDF) または繊維ベースのフィルターと比較して 5 ～ 10 倍長い耐用年数を実現し、消耗品のコストとツールのダウンタイムを大幅に削減します。

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V. 3/4 インチおねじを使用した直接ドロップイン改造

3/4 インチのオス NPT ネジ接続は、アダプタを追加することなく、既存の CMP スラリー供給システム-再循環ループ、研磨パッドマニホールドの使用時点アセンブリ-にシームレスに統合します。標準フィルタハウジングと互換性があり、数分以内に現場で交換できます。レーザー溶接されたエンドキャップと溶接されたインターフェースにより、高流量、高振動のウェーハ製造環境下でも漏れがありません。顧客の要件に応じて、カスタマイズ可能なエンドフィッティング、ねじタイプ、および全体の寸法を利用できます。

VI.高温の気体および液体用途で使用可能

スラリー濾過を超えて、ガス分配ライン、蒸気濾過、高純度化学物質の移送まで拡張されます。ポリマー膜が劣化するオートクレーブ滅菌サイクルにおいても熱安定性があり、600 度までの高温ガスのろ過に適しています。追加機能を提供します: 空気圧排気の騒音低減、CMP ツールの空気圧制御におけるガス緩衝、危険ガスラインの難燃性。

製品用途

1. 半導体ウェーハ平坦化におけるCMPスラリー循環ろ過

3/4 インチ雄ネジ焼結 SS316L 粉末フィルターカートリッジは、10 ～ 200 nm の効果的な研磨粒子を維持しながら、化学機械平坦化スラリーから過剰な研磨凝集塊 (シリカ、セリア、コロイダルシリカ) を除去します。深層ろ過マトリックスが粒子汚染物質を捕捉します-パッドコンディショニングからのシリカの破片、界面活性剤の分解からのゲル粒子、配管からの金属残留物バイパスチャネルなしで相互接続された細孔ネットワーク内の腐食を防ぎます。絶対的な保持により、ウェハ表面の微小な傷、曇り、パターンの損傷が排除され、高度なロジックおよびメモリ製造におけるダイの歩留まりが直接向上します。3/4 インチのオス NPT ネジ山により、現場での迅速な交換が可能です。{10}{11}

2. 製油所および石油化学プロセスにおける触媒の回収

3/4 インチ雄ネジ焼結 SS316L 粉末フィルターカートリッジは、水素化分解装置、水素化処理装置、FCC ユニットにわたる液体-固体および気体-固体の分離作業において、高い差圧 (>30 bar) の下で動作します。反応器流出流から貴金属触媒 (白金、パラジウム、ラネーニッケル) およびゼオライトベースの分解触媒を捕捉し、触媒微粒子を回収します。 0.5 μm の高い開気孔率 (30 ～ 50%) と硬質焼結ネットワークにより、高速の触媒スラリー流による浸食に耐え、逆洗再生間のオンストリームサイクルの延長が可能になります。

3. 高温ガスと蒸気の精製-

3/4 インチ雄ネジ焼結 SS316L 粉末フィルターカートリッジは、酸化性雰囲気中で 600 度までの連続運転に耐え、排煙脱硫前ろ過、連続排出監視システム (CEMS) プローブ保護、ガス化装置合成ガスからの高温ダスト除去に適しています。 200 ～ 300 度で乾式蒸気ろ過を実行し、さび粒子、パイプスケール、炭素堆積物を除去します。下流の滅菌蒸気滅菌フィルターに損傷を与えるため、圧縮空気の油除去、気液コアレッサーの曇り除去、発酵槽やバイオリアクターの滅菌ベントろ過にも適用できます。

4. 腐食性の化学薬品および溶剤の処理

316L モリブデン含有により、304 ステンレス鋼では機能しない塩化物含有媒体 (海水、漂白剤、塩酸サービス) において耐孔食性が得られます。 3/4 インチ雄ネジ焼結 SS316L 粉末フィルターカートリッジは、材料を劣化させることなく、強極性溶媒 (DMF、NMP、アセトン)、濃硫酸、苛性ソーダ溶液、および有機酸をろ過します。深層ろ過は、水素化反応器から触媒微粒子を捕捉し、モノマー再循環ループから重合残留物を除去し、製油所システムの熱伝達流体を浄化します。幅広い化学的適合性は、両方の連続プロセスに適しています。溶媒を頻繁に交換する濾過およびバッチ操作。

5. 水素エネルギーと電解装置システム

微多孔質焼結 316L 構造は、PEM 電解槽およびアルカリ水電解システムの水素拡散層として機能します。 3/4 インチ雄ネジ焼結 SS316L 粉末フィルターカートリッジは、再循環する電解質の流れからイオン性不純物や粒子状汚染物質を捕捉し、膜電極アセンブリを劣化から保護します。また、電解槽出口の気液分離エレメントとしても配備され、圧縮および貯蔵前に水素生成ガスから残留水分を除去します。

6. 工業用水・廃水処理

3/4 インチ雄ネジ焼結 SS316L 粉末フィルターカートリッジは、半導体超純水システムの逆浸透透過水を研磨し、ウエハ洗浄の SEMI 基準を満たす微量粒子を 0.22 μm まで除去します。油田注水用の生産水濾過に導入され、破砕逆流および冷却塔のブローダウンから懸濁物質を除去します。CIP リターンラインの最終研磨フィルターとしても使用でき、溶接スパッタ、ガスケットを捕捉します。ステンレス鋼配管ネットワークからの破片および腐食生成物。