Ti ベースのガス拡散層金属多孔質チタンプレートは、主に標準的な PEM 電解槽の単一セルおよびスタックで、特に酸素 (アノード) 側の流れ場または拡散材料として使用されます。。電解装置のハードウェアでは、反応中に炭素が直ちに CO2 (媒体が酸性の場合) または炭酸イオン (媒体が塩基性の場合) に酸化されるため、アノードで炭素ベースのガス拡散層 (GDL) を使用できません。

Ti ベースのガス拡散層多孔質チタンプレートは、電解槽や燃料電池などのさまざまな用途における拡散媒体として優れたオプションです。 TOPTITECH の多孔質金属ガス拡散層は、これらの用途で高性能を達成するための最良の選択肢です。均一な気孔率、強度、および耐食性は他の拡散層製品よりも優れています。TOPTITECH 基板は、燃料電池の動作温度の全範囲をサポートするためにさまざまな合金で入手可能であり、性能を向上させるために表面処理または触媒層でコーティングすることができます。

電解槽ではカーボンベースのガス拡散層を利用してみてはいかがでしょうか?
電解槽で炭素ベースのガス拡散層 (GDL) を使用すると、いくつかの課題が生じる可能性があります。電解槽のアノード側に酸素イオンと電圧が存在すると、GDL 内の炭素が酸化され、CO2 ガスが発生する可能性があります。これにより、最初は電解電圧が低下する可能性がありますが、カーボン GDL の消費は短期間の現象です。その結果、スタックの圧縮が減少し、抵抗が増加し、パフォーマンスが低下します。したがって、電解槽で炭素ベースの GDL を使用することはお勧めできません。

製品パラメータ

材料	チタン
厚さ	0.5mm 以上
長さ	30～1500mm（1500mm以上は溶接可能）
ろ過精度	0.2um~100um
気孔率	30 パーセント -40 パーセント