GR5チタンターゲット材料とは、適切なプロセス条件下で、マグネトロンスパッタリング、マルチアークイオンプレーティング、またはその他のタイプのコーティング装置によって基板上にさまざまな機能膜を形成するスパッタリングソースを指します。スパッタリングターゲットは、装飾、金型、ガラス、電子デバイス、半導体、磁気記録、平面ディスプレイ、太陽電池、および他の多くの分野で広く使用されています。

純度はターゲット材料の主要な性能指標の 1 つです。これは、ターゲット材料の純度が薄肉性能に大きな影響を与えるためです。

異なるターゲット材料は、異なる条件の下で異なる不純物含有量に対する異なる要件を持っています。

通常、ターゲット材料は、ミクロンからミリメートルの範囲の粒子サイズを持つ多結晶です。同じターゲットの場合、細粒のターゲットの方が粗粒のターゲットよりもスパッタリング速度が速くなります。粒度差が小さい（均一な分布）ターゲットスパッタリングによって堆積された薄膜は、より均一な厚さ分布を有する。

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